Plaats Delict #3: Contrast

Tentoonstelling

4 Haz 2011
12 Haz 2011

Experimentele tentoonstelling met als uitgangspunt contrast.

Enlarge

Plaats Delict #3: Contrast - Plaats Delict #3: Contrast Kunstenaaarsinitiatief Paraplufabriek

Samuel T. Adams (VS)
Vincent Dams (NL)
Ben Grasso (VS)
Langdon Graves (VS)
Henny Overbeek (NL)
V & B (Alex Jacobs en Ellemieke Schoenmaker, NL)

In de tentoonstellingsruimte van kunstenaarsinitiatief Paraplufabriek wordt heftig geëxperimenteerd. Verschil tussen tegenstellingen, contrast, is hierbij het uitgangspunt. De curatoren van Plaats Delict (Niek Audenaerd, Daniela Schwabe en Janita de Vries) nodigden drie veelbelovende jonge kunstenaars uit New York en vier uit Nederland uit om ter plekke nieuw werk te vervaardigen, waarbij ze reageren op de ruimte en elkaars aanwezigheid daar. Het project gaat uit van een wisselwerking tussen de kunstenaars, hun werkwijze en materiaalkeuze waardoor er een contrast tot stand komt.

Om dit contrast aan te wakkeren zijn de twee verschillende nationaliteiten letterlijk tegenover elkaar geplaatst in de zaal, die door middel van een grenslijn is opgedeeld in twee gebieden. Gedurende de werkperiode van twee weken zijn de kunstenaars vrij om deze grens te verleggen of te laten vervagen. Op 3 juni zal het zal het eindresultaat van dit experiment feestelijk geopend en gepresenteerd worden.

Opening 3 juni 20.00uur, zaal open 19.30 uur
Openingstijden 4 t/m 12 juni 2011, maandag t/m zondag 12.00 – 18.00 uur
Van Oldenbarneveltstraat 63 a
6512 AT Nijmegen
024-3601746
info@expoplu.nl

www.expoplu.nl | www.plaatsdelict.com